捕捉与介质接触的工艺流体
晶片加工：化学环境中的液位控制
半导体制造涉及许多湿工艺，例如在整个生产周期中多次使用超纯水进行清洗。蚀刻等其他工艺则需要腐蚀性化学品。无论是哪种工艺，所需的液体都必须储存在储液罐中，并对其液位进行监控。
然而，测量腐蚀性化学品的液位对传感器来说是一项特殊的挑战。尤其是在储罐壁不允许从外部进行检测的情况下。在这种情况下，我们带有 PTFE 涂层外壳的电容式传感器就是正确的选择。这些传感器可以检测直接检测工艺液体中高导电性介质（如酸和碱）的含量。.这意味着蚀刻、抗蚀剂的应用、光刻或化学机械抛光后的显影以及晶片的清洁都可以按计划进行。
我们的液位传感器外壳材料由不锈钢或聚四氟乙烯（PTFE）或聚醚醚酮（PEEK）等耐化学塑料制成，具有惰性和耐热性。惰性且非常耐热。耐热。由于我们的特殊传感器外壳可以承受侵蚀性酸液，因此即使是对侵蚀性很强的介质进行液位监测，也可以通过与介质接触来解决。
因此，我们的润湿传感器非常适合半导体工业自动化.
标准产品不符合您的要求？除了全面的标准产品组合外，我们还提供定制解决方案。请联系我们，讨论您的要求。
本杰明-伦茨（Benjamin Renz），半导体与电子产品部全球市场细分经理
特殊功能
- 采用聚四氟乙烯（PTFE）外壳，具有很强的耐化学性
- 适用于酸、碱、超纯水和泥浆
- 智能液位技术实现泡沫和积聚补偿
- 精确可靠的检测
用于半导体工业中湿液位监测的产品
让我们为您的系统提供最佳性能
Downloads
-
半导体行业的解决方案(紧凑、可靠、超性能、高精度)
-
Custom Design and Engineering – custom specific camera and sensor solutions